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电子束曝光系统ELS-F125具有以下优点：
l超高书写精度
-5 nm线宽精度 125 kV
-1.7 nm电子束直径&邻近效应小化 125 kV
l大通量、均匀性好
-宽视野书写:500um视场下10 nm线宽
-高束流下电子束直径依然很小，大通量而不影响分辨率，2 nm电子束直径 1 nA
l界面用户友好
基于Windows系统的CAD和SEM界面:
-简单易用的图案设计功能
-易于控制的电子束条件
二、电子束曝光系统主要功能：
l主要应用
纳米器件的微结构
集成光学器件，如光栅，光子晶体等
NEMS结构，复杂精细结构
光刻掩模板，压印模板
l技术能力
三、应用：
http://www.natengyiqi.com/Products-36860820.html
https://www.chem17.com/st125795/product_36860820.html
原文链接：http://www.lingmov.com/chanpin/show-88242.html，转载和复制请保留此链接。
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